当负载p25 uv光催化设备后，光氧催化废气处理设备，进行光催化反响试验，光氧催化试验结果表明运用真空紫外线（uv）后，在同等条件下可以进步光催化处理功率7%左右。在进行光催化反响过程中，因为uv 光源自身就能去除少数的家---。而且uv 的能量更高所以其催化效果---，一起因为光解发生的羟自由基与光催化的协同效果，也进步了光催化法去除家---的功率。光氧催化试验光源选用一盏10w 真空紫外线（uv）灯，反响器进口家---浓度为200mg/m3，流量为0.6l/min，停留时间为25s，负载p25 uv光催化设备的玻璃珠为光催化反响器的填料。每距离15min从反响器出口采样，分别在相对湿度15% 、30%、45% 、60%、70%下测定家---的去除率。
光氧催化试验结果表明，相对湿度在15%到45%时，光催化对除家---的去除功率跟着相对湿度的添加而进步；当相对湿度大于60%今后光催化的功率跟着相对湿度的添加而下降。相对湿度在45%到60%间光催化去除家---的功率到达醉高。这首要原因是，光氧催化在相对湿度较低时，反响系统中的水分子较少，光催化反响发生的·oh较少，而跟着相对湿度的添加，光催化反响系统中的·oh 逐步添加，然后进步了光催化对家---的去除功率；但跟着相对湿度的持续添加，系统中的水分子越来越多，当相对湿度大于60%今后，光催化反响系统中的水分子和反响物家---在催化剂外表的竞赛吸附越来越显着，然后使家---的去除率开端下降。
光氧催化
光氧催化光催化反应速率往往取决于反响物的浓度， tio2有稍稍的吸附才能，复合材料添加这些吸附才能，能够进步二氧化钛外表的颗粒层，然后环境中高浓度的有机物吸附在tio2周围，成果使得催化作用明显进步，在很多的研讨中运用了吸附剂与光催化设备复合，如沸石、氧化铝、硅土、丝光沸石和活性炭等等，这些吸附资料常作为tio2的载体，试验标明混合催化具有较高的降解率，并且除了tio2外zno在与活性炭的一起作用下也表现出较好的光催化作用。
影响光氧催化光催化净化的主要因素
光氧催化光源及其强度
紫外线光源是光催化反响不行短少的重要部分，对光催化反响速率有着重要的影响。理论上讲小于380nm的光频能够诱发tio2的光催化活性。虽然一些研讨者开发了可见光条件下的光催化反响，光氧催化设备厂家，可是灭菌紫外线（uvc 254nm）荧光黑光灯(300–370 nm)仍然是醉广泛运用的光源。
进口浓度对家---去除率的影响
光氧催化试验光源选用一盏10w的真空紫外线（uv）灯，流量为0.6l/min，逗留时间为25s，相对湿度45%，负载p25 光催化设备的玻璃珠为uv光催化设备的填料。每距离15min从反响器出口采样，分别在光氧催化反响器进口浓度为60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3条件下测定家---的去除率。当家---的进口浓度由60mg/m3升高至800mg/m3时，家---的去除率由69%下降至14%。依据lagmium-hinsherwood动力学方程，在气固相光催化反响过程中，当光氧催化反响物浓度很低时，光氧催化光催化降解率与浓度呈正比，光催化降解表现为一级动力学方程；
跟着反响物的浓度添加，光氧催化，去除率略有所添加；而本试验所选用废气中为中低浓度的家---，当家---的浓度在这一个范围内，光氧催化反响速率只与活性方位的表面反响速率常数有关，反响速率为一常数，光催化降解表现为零级反响动力学。若反响物浓度过高，使得在反响时间内很多的家---分子未能与活性空位触摸，而直接流出反响器，光氧催化废气净化器，导致了反响去除率的下降，一起因为家---浓度过高，反响不行完全，催化剂外表吸附了部分反响中心产品，占有了光催化反响的活性位也会导致光催化反响的功率下降。
光氧催化
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